鈮靶,旋轉鈮靶,專業(yè)生產(chǎn)鈮靶

? ? UVTM專業(yè)鈮靶生產(chǎn)商,為您提供高品質的濺射靶材,電磁屏蔽膜,鍍膜玻璃工業(yè)用鈮靶,薄膜太陽能用高純銅靶,無氧銅靶材,純度5N根據(jù)客戶圖紙加工長率達到18%。受機械硬盤出貨容量增長的帶動，記錄媒體靶材需求穩(wěn)定增長。薄膜太陽能電池效率存在提升空間，靶材需求。硅電池的效率已經(jīng)接近其理論值，而薄膜太陽能電池的效率在逐年提高。據(jù)預測，年會呈現(xiàn)逐年遞增的趨勢，并于2023年打破395億美元大關。平板顯

2024-07-30 面議/套

高密度AZO靶材 AZO靶材采購

中國芯片究竟在哪個環(huán)節(jié)被美國“卡”了脖子？數(shù)據(jù)表明，2019年，我國芯片自給率僅為30%左右。根據(jù)有關部門的發(fā)展規(guī)劃，2025年，芯片自給率提升到70%，這差不多是當下美國等芯片大國的平均水平。作為一個龐大且復雜的行業(yè)，芯片行業(yè)擁有一條超長的產(chǎn)業(yè)鏈。其整體可分為設計、制造、封裝、四大環(huán)節(jié)。除了在設計領域，華為海思擁有一定的打破能力，其他三個環(huán)節(jié)，尤其是在制造環(huán)節(jié)，國內(nèi)廠商的能力仍有較大的提升空間。

2024-07-30 面議/套

99.99%高純銦靶,旋轉銦靶,銦

? ? ? ITO導電膜屬于掛式電容屏技術。以新型顯示應用相關的人工智能(AI)、現(xiàn)實(VR)、增強現(xiàn)實(AR)、物聯(lián)網(wǎng)、大數(shù)據(jù)等新興產(chǎn)業(yè)為，用的重要發(fā)力點。用準確儀器設備在半導體芯片各個功能層上鍍覆一層薄薄的透明金屬導電膜，這層膜的厚度因功能需求而有不同，200納米之間。不足頭發(fā)絲直徑五百分之一，以實現(xiàn)半導體金屬的物理化學性能，稱為薄膜。中國的車載芯片依稀可以窺見鎢材料，更具體地說，是高純鎢濺射

2024-07-30 面議/套

氧化鋁靶材,射頻靶材,氧化鋁

? ? UVTM是國家高新技術企業(yè)，公司成立于二00三年，專業(yè)從事信息、鍍膜、太陽能材料的科研與生產(chǎn)。公司從德國、日本、引進先進的生產(chǎn)、檢測設備和專業(yè)人才，是集科研、生產(chǎn)、銷售、服務于一體的中外合資企業(yè)。UVTM廣州工廠建成于2006年，位于花都區(qū)華僑科技工業(yè)園，占地面積近3萬平方米，建筑面積239平方米,地理近臨廣州國際白云機場，交地便利。磁控濺射技術是70年展起來的一種新型濺射技術，目前已在科

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旋轉氧化鈦靶,氧化鈦旋轉靶

? ? ? 高純?yōu)R射靶材是伴隨著半導體工業(yè)的發(fā)展而興起的，濺射靶材市場不僅僅在于電子行業(yè)，近年來砍濺射靶材的市場規(guī)模正在悄然發(fā)展，靶材的難點僅僅看純度么？靶材性能影響鍍膜質量，不同應用性能要求各有側重，通常半導體靶材純度高，平面顯示靶材面積大對均勻性、焊接率要求高，而多元素靶材對原料成分和籌備均勻性提出更高要求。靶材原料高純金屬和陶瓷粉位于靶材產(chǎn)業(yè)鏈的高附加值環(huán)節(jié)，主要依靠日美***，而國內(nèi)少數(shù)金

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供應鉻靶材,噴涂鉻靶材,高純

? ? ? 真空鍍膜機是目前制作真空條件應用較為廣泛的真空設備，一般用真空室、真空機組、電氣控制柜三大部分組成，排氣系統(tǒng)采用“擴散泵 機械泵＋羅茨泵＋低溫冷阱＋polycold;組成。真空主體;真空腔根據(jù)加工產(chǎn)品要求的各異，真空腔的大小也不一樣，目前應用較多的有直徑1.3M、0.9M、1.5M、1.8M等，腔體由不銹鋼材料制作，要求不生銹、堅實等，真空腔各部分有連接閥，用來連接各抽氣泵浦。抽氣系統(tǒng)

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釹鋁合金靶材,鋁釹合金靶材,

? ? ? 主要用于五金裝飾的耐磨、耐腐蝕硬膜，LOW-E鍍膜玻璃，半導體電子加工尺寸:長度:4000MM厚度:6-10MM，直型、狗骨型，對于貨品靶材，若剩余下的高純殘靶若以普通廢料進行處理，將會是對稀貴材料的較大浪費；同時，靶材從原材料到加工成成品，成材率一般只有40%-80%，大量的余料和殘屑需要更新循環(huán)利用。對于貨品靶材，由于材料價格昂貴，迫切需要對加工過程的余料殘屑的提純再利用及對殘進行

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鎢合金靶材,噴涂鎢靶材,鎢靶

? ? ? 科技日報：ITO靶材屬于35項卡脖子技術之一。UVTM掌握濺射靶材生產(chǎn)的核心技術以后，實施極其嚴格的保密措施，限制技術擴散，目前制備太陽能電池較為常用的濺射靶材包括鋁靶、銅靶、鉬靶、鉻靶以及ITO靶、AZO靶(氧化鋁鋅)等在國內(nèi)處于****水平。在中國光伏產(chǎn)業(yè)迅猛發(fā)展的前提下，作為薄膜太陽能電池上游的太陽能電池靶材市場規(guī)模也會保持高速發(fā)展。平板顯示器不斷向大尺寸方向發(fā)展，平板顯示器的出

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鎢鈦合金靶,鈦鎢合金靶,鎢合

? ? ? 高純鋁及鋁合金是目前使用廣泛的導電層薄膜材料之一。和超大規(guī)模集成電路芯片的制造對濺射靶材金屬純度的要求相比，太陽能電池用鋁靶的金屬純度略低，99.995%（4N5）以上。目前制備薄膜電池較為常用的濺射靶材包括鋁靶、銅靶、鉬靶、鉻靶以及ITO靶、AZO靶(氧化鋁鋅)等。鋁靶、銅靶用于導電層薄膜，鉬靶、鉻靶用于阻擋層薄膜。光伏領域對靶材的使用主要是薄膜電池和HIT光伏電池。其中光伏薄膜電池

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濺射靶材供應商家 濺射靶材

? ? ? ?目前國內(nèi)氧化物薄膜材料的制備方法和技術有很多，其中主要的方法有脈沖激光沉積、磁控濺射、電子束蒸發(fā)、分子束外延等物理方法，以及化學氣相沉積、溶膠-凝膠、噴霧熱解等化學方法。在這些制備技術中，磁控濺射鍍膜技術具有易于大面積鍍膜、工業(yè)化生產(chǎn)以及薄膜品質、成分、結構、均勻性等易于調控的優(yōu)勢，是產(chǎn)業(yè)化制備氧化物薄膜材料的重要方法之一，以該方法制備的氧化物薄膜材料在液晶面板、觸摸屏、薄膜太陽能電

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