20世紀90年代以來靶材已蓬勃發(fā)展成為一個有經(jīng)驗化產(chǎn)業(yè)，中國及亞太地區(qū)靶材的需求占有世界70%以上的市場份額。大量不同的沉積技術(shù)用來沉積生長各種薄膜，而靶材是制作薄膜的關(guān)鍵，品質(zhì)的好壞對薄膜的意義重大。目前高等品質(zhì)靶材主要由:日本、德國和美國生產(chǎn)，我國靶材產(chǎn)業(yè)起步較晚，在產(chǎn)品質(zhì)量與精細標準上與國外有不少的差距，國內(nèi)也有許多大學及研究機構(gòu)對靶材積較投入了大量鉆研與開發(fā)，經(jīng)過這幾年的發(fā)展,珠三角也涌現(xiàn)了一批高新科技靶材廠家，其中少數(shù)成為了三星等全部知名企業(yè)的供應商，他們在國內(nèi)占據(jù)了大部分中高等靶材市場份額。

　　1靶材應用行業(yè)分類

　　1.1裝飾、工模具鍍膜行業(yè)靶材鉻靶（Cr），平面鉻靶，噴涂鉻管；

　　鉻硅靶90/10Wt%,50/50at%,25/75at%(電弧，平面靶，旋轉(zhuǎn)管靶）；

　　鈦鋁靶50/50at%,70Ti/30at%,67AL/33at%（電弧，平面靶，旋轉(zhuǎn)管靶）；

　　鈦鋁硅靶1:1:1at%,1:2:1at%(電弧，平面靶，旋轉(zhuǎn)管靶）；

　　鈦靶，鈦管靶，鋯靶；

　　金靶、玫瑰金靶；

　　石墨靶，鎳靶，鋁靶，不銹鋼靶等。

　　1.2太陽能光伏光熱行業(yè)靶材

　　氧化鋅鋁靶AZO；硅靶；鈦靶、氧化鈦靶；鋁靶；鉻靶、鎳鉻；鋅鋁、鎢、鉬靶等。

　　1.3建筑汽車玻璃大面積鍍膜

　　硅鋁靶、旋轉(zhuǎn)硅鋁靶；氧化鈦靶；錫靶；鉻靶；硅靶；鈦靶、不銹鋼靶。

　　1.4平面顯示行業(yè)

　　ITO靶；二氧化硅靶；高純硅靶4-7N；高純鉻靶3N5；TFT鉬靶；鉬鈮靶；鎢鈦靶90/10wt%；高純鋁靶等。

　　1.5光學，光通信，光存儲行業(yè)

　　銀靶；鉭靶；硫化鋅靶；高純鋁靶；硅靶。

　　2常用靶形

　　常用靶形有電弧靶、平面靶、旋轉(zhuǎn)管靶。

　　2.1平面靶材利用率提高方式

　�。�1）改變磁鐵運動方向

　�。�2）改變磁力線分布寬度和高度

　　2.2靶材性能與要求

　　靶材質(zhì)量直接影響著薄膜的物理、外觀、力學等性能，因而對靶材質(zhì)量的評判較為嚴格，主要應滿足以下要求：雜質(zhì)及氧含量低、純度高；致密度高；成分與結(jié)構(gòu)均勻；晶粒尺寸細小。

　　2.3劣質(zhì)靶材缺點

　　a)為熔煉鉻靶燒蝕后靶面情況

　　b)靶面有凹痕為引弧針安裝不當導致的

　　c)水晶鍍膜靶材密度不夠，燒蝕后區(qū)別

　　d)等離子噴涂氧化鈦旋轉(zhuǎn)管靶不良