CW12A平面精密環(huán)拋機，主要用于光學玻璃、石英、晶體、電子元件、金屬和非金屬高精度平面元件的精磨拋光。本機床采用花崗巖平臺，環(huán)型軸承，在重載荷低頻率下可長期運行，運行平穩(wěn)、低噪音、節(jié)省能源、加工平面零件精度可達λ/20以上。

主要技術(shù)參數(shù)：
1、 磨盤直徑	1200 mm		2、 水盆直徑	Φ1400 mm
3、盤面跳動 單點跳動	≤0.08mm ≤0.02mm		4、 加工范圍	Φ≤500mm
4、 磨盤轉(zhuǎn)速	0～5轉(zhuǎn)/分		5、 機床總功率	3.7KW
6、 機床重量	約2000 kg		7、 外形尺寸	1560×1560×830(mm)
機床的任何特殊需求都可根據(jù)用戶的要求設(shè)計、制造。

主營產(chǎn)品：平面準確環(huán)拋機+兩軸研磨拋光機+四軸研磨拋光機+大兩軸精磨拋光機+單軸磨拋機+手修機 公司成立年份：
公司網(wǎng)址：http://xibingd2011.glass.com.cn

供應(yīng)CW12A平面精拋機

產(chǎn)品屬性：
計量單位：臺 供貨總量：10 最小起訂量：1 產(chǎn)品單價：0.00 品牌： 規(guī)格型號：CW12A 包裝說明：木箱包裝

拋光機操作的關(guān)鍵是要設(shè)法得到最大的拋光速率，以便盡快除去磨光時產(chǎn)生的損傷層。同時也要使拋光損傷層不會影響最終觀察到的組織，即不會造成假組織。前者要求使用較粗的磨料，以保證有較大的拋光速率來去除磨光的損傷層，但拋光損傷層也較深；后者要求使用最細的材料，使拋光損傷層較淺，但拋光速率低。解決這個矛盾的最好的辦法就是把拋光分為兩個階段進行。粗拋目的是去除磨光損傷層，這一階段應(yīng)具有最大的拋光速率，粗拋形成的表層損傷是次要的考慮，不過也應(yīng)當盡可能小；其次是精拋(或稱終拋)，其目的是去除粗拋產(chǎn)生的表層損傷，使拋光損傷減到最小。拋光機拋光時，試樣磨面與拋光盤應(yīng)絕對平行并均勻地輕壓在拋光盤上，注意防止試樣飛出和因壓力太大而產(chǎn)生新磨痕。同時還應(yīng)使試樣自轉(zhuǎn)并沿轉(zhuǎn)盤半徑方向來回移動，以避免拋光織物局部磨損太快在拋光過程中要不斷添加微粉懸浮液，使拋光織物保持一定濕度。濕度太大會減弱拋光的磨痕作用，使試樣中硬相呈現(xiàn)浮凸和鋼中非金屬夾雜物及鑄鐵中石墨相產(chǎn)生“曳尾”現(xiàn)象；濕度太小時，由于摩擦生熱會使試樣升溫，潤滑作用減小，磨面失去光澤，甚至出現(xiàn)黑斑，輕合金則會拋傷表面。為了達到粗拋的目的，要求轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)速較低，最好不要超過600r/min；拋光時間應(yīng)當比去掉劃痕所需的時間長些，因為還要去掉變形層。粗拋后磨面光滑，但黯淡無光，在顯微鏡下觀察有均勻細致的磨痕，有待精拋消除。精拋時轉(zhuǎn)盤速度可適當提高，拋光時間以拋掉粗拋的損傷層為宜。精拋后磨面明亮如鏡，在顯微鏡明視場條件下看不到劃痕，但在相襯照明條件下則仍可見到磨痕。拋光機拋光質(zhì)量的好壞嚴重影響試樣的組織結(jié)構(gòu)，已逐步引起有關(guān)專家的重視。國內(nèi)外在拋光機的性能上作了大量的研究工作，研究出不少新機型、新一代的拋光設(shè)備，正由原來的手動操作發(fā)展成為各種各樣的半自動及全自動拋光機。下面介紹幾種常用的機械拋光機的性能和特點。拋機光專門針對鋼、鋁銅等金屬制品的表面和管類進行效果處理，幾十種原廠配件滿足不同需要，輕而易舉制造出各種精度不同的雪花紋、拉絲紋、波浪紋、啞光面、鏡面等，快速修補深度劃痕和輕微刮花，快速打磨和拋光；焊縫、水口痕、跡氧化膜、污跡和油漆等，適用於去毛刺、形成圓角，裝飾性金屬加工，在加工過程中不會形成暗影、過渡地帶和裝飾面不均勻等，是金屬制品生產(chǎn)線的重要設(shè)備。拋光機適用于以下行業(yè)：木材、家具行業(yè)如平木板、家具金屬拉手等工件砂光拉絲；五金（金屬）材料及制品鋁型材及其制品、不銹鋼制品及器皿、銅型材及制品、水暖衛(wèi)浴器材、鎖類、燈飾制品、標牌銘牌、五金工藝飾品、刀剪類、門的活葉、汽車自行車零配件、餐具類、韙扣類制品、鈕扣、皮帶扣、手機外殼、鐘表行業(yè)等工件砂光拉絲；電子零件、電子器材如電子零件、平板砂光拉絲等。